目前用作 RFI（RF Interference-射頻干擾）屏蔽的材料范圍包括導(dǎo)電金屬氧化物、金屬網(wǎng)和納米線等材料。

我司EMI/RFI屏蔽膜主要是銅材蝕刻加工后，通過壓合于膜材上，主要是對產(chǎn)品內(nèi)部線路起到減弱或消除電磁干擾/射頻干擾的作用。

具有優(yōu)良的電磁波屏蔽性能的柔性、薄、輕量的電磁波屏蔽膜，用于防止周圍環(huán)境中的醫(yī)療器械、船舶、飛機等精密設(shè)備發(fā)生故障。

EMI/RFI屏蔽膜提供有效的電磁屏蔽和最佳的透明度（可見光透射率 >80%）。

EMI/RFI屏蔽膜上包含的銅網(wǎng)為 ITO 屏蔽提供了很好的替代品（更好的電阻和導(dǎo)電性）。事實上，ITO 技術(shù)是基于具有非常薄層的支撐金屬化。該技術(shù)提供較低的電導(dǎo)率、較低的透明度和較高的氧化風(fēng)險。這就是為什么我們更愿意提出這種基于 Cu Mesh 原理的 EMI 屏蔽膜。

目前用作 RFI（RF Interference-射頻干擾）屏蔽的材料范圍包括導(dǎo)電金屬氧化物、金屬網(wǎng)和納米線等材料。

我司EMI/RFI屏蔽膜主要是銅材蝕刻加工后，通過壓合于膜材上，主要是對產(chǎn)品內(nèi)部線路起到減弱或消除電磁干擾/射頻干擾的作用。

具有優(yōu)良的電磁波屏蔽性能的柔性、薄、輕量的電磁波屏蔽膜，用于防止周圍環(huán)境中的醫(yī)療器械、船舶、飛機等精密設(shè)備發(fā)生故障。

EMI/RFI屏蔽膜提供有效的電磁屏蔽和最佳的透明度（可見光透射率 >80%）。

EMI/RFI屏蔽膜上包含的銅網(wǎng)為 ITO 屏蔽提供了很好的替代品（更好的電阻和導(dǎo)電性）。事實上，ITO 技術(shù)是基于具有非常薄層的支撐金屬化。該技術(shù)提供較低的電導(dǎo)率、較低的透明度和較高的氧化風(fēng)險。這就是為什么我們更愿意提出這種基于 Cu Mesh 原理的 EMI 屏蔽膜。

目前用作 RFI（RF Interference-射頻干擾）屏蔽的材料范圍包括導(dǎo)電金屬氧化物、金屬網(wǎng)和納米線等材料。

我司EMI/RFI屏蔽膜主要是銅材蝕刻加工后，通過壓合于膜材上，主要是對產(chǎn)品內(nèi)部線路起到減弱或消除電磁干擾/射頻干擾的作用。

具有優(yōu)良的電磁波屏蔽性能的柔性、薄、輕量的電磁波屏蔽膜，用于防止周圍環(huán)境中的醫(yī)療器械、船舶、飛機等精密設(shè)備發(fā)生故障。

EMI/RFI屏蔽膜提供有效的電磁屏蔽和最佳的透明度（可見光透射率 >80%）。

EMI/RFI屏蔽膜上包含的銅網(wǎng)為 ITO 屏蔽提供了很好的替代品（更好的電阻和導(dǎo)電性）。事實上，ITO 技術(shù)是基于具有非常薄層的支撐金屬化。該技術(shù)提供較低的電導(dǎo)率、較低的透明度和較高的氧化風(fēng)險。這就是為什么我們更愿意提出這種基于 Cu Mesh 原理的 EMI 屏蔽膜。